什么是表面電場分布的掃描靜電力顯微鏡技術？
原子力顯微鏡技術已儼然成為掃描探針顯微鏡的入門技術。
原子力顯微鏡在納米級表面形貌分析的成功經(jīng)驗，
使得研究人員得以更廣泛利用原子力顯微鏡的架構(gòu)從事各種物理量的二維掃描偵測、分析與研究，
也因此衍生出應用于表面磁性分析的掃描磁力顯微鏡技術(magnetic force microscopy，MFM)；
應用于表面電場分布的掃描靜電力顯微鏡技術(electrostatic force microscopy，EFM)
；應用于表面光學特性分析的掃描近場光學顯微鏡技術(scanning near-field optical microscopy，SNOM)；
應用于表面電性分析的掃描電流顯微鏡技術(conductive atomic force microscopy，C-AFM)、掃描展阻顯微鏡技術(scanning spreading resistance microscopy，SSRM)
與掃描電容顯微鏡技術(scanning capacitance microscopy，SCM)；
以及應用于表面硬度分布的原子力超音波顯微鏡技術(atomic force acoustic microscopy，AFAM)等。
電性掃描探針顯微鏡技術包括掃描電容顯微鏡、掃描電流顯微鏡、掃描展阻顯微鏡以及靜電力顯微鏡四個主要技術領域，
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